[发明专利]一种化学改良帷幕和井点降水的基坑止水结构及施工方法在审

专利信息
申请号: 202110553020.1 申请日: 2021-05-20
公开(公告)号: CN113373950A 公开(公告)日: 2021-09-10
发明(设计)人: 宋叶青;潘国华;赵殿鹏;刘明维;顾海军;毛巍鑫;张重阳;孔增增;赵进;葛鹏飞 申请(专利权)人: 杭州交投建设工程有限公司;重庆交通大学
主分类号: E02D17/20 分类号: E02D17/20;E02D17/04;E02D19/18;E02D19/10;E02D31/02;C09K17/40;C09K103/00
代理公司: 重庆缙云专利代理事务所(特殊普通合伙) 50237 代理人: 王翔
地址: 310000 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种化学改良帷幕和井点降水的基坑止水结构及施工方法,该方法包括以下步骤:1)场地整平至设计标高;2)对基坑支挡结构进行施工,在基坑支挡结构的上端安装冠梁;3)对化学改良注浆帷幕进行施工;4)在化学改良注浆帷幕内侧开挖若干降水井,并安装抽水泵;5)开挖基坑并进行分级放坡处理,直到基坑的深度达到设计要求;其中,抽水泵在开挖过程中持续运行,使地下水位在作业面以下2.8~3.0m。化学改良注浆帷幕止水和井点降水联合的基坑止水结构更适用于富水粉土地区的基坑止水,能有效应对粉土工程含水量大、强度低、压缩性大、透水性大等特点带来的不稳定性。
搜索关键词: 一种 化学 改良 帷幕 降水 基坑 止水 结构 施工 方法
【主权项】:
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