[发明专利]一种化学改良帷幕和井点降水的基坑止水结构及施工方法在审
| 申请号： | 202110553020.1 | 申请日： | 2021-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN113373950A | 公开（公告）日： | 2021-09-10 |
| 发明（设计）人： | 宋叶青;潘国华;赵殿鹏;刘明维;顾海军;毛巍鑫;张重阳;孔增增;赵进;葛鹏飞 | 申请（专利权）人： | 杭州交投建设工程有限公司;重庆交通大学 |
| 主分类号： | E02D17/20 | 分类号： | E02D17/20;E02D17/04;E02D19/18;E02D19/10;E02D31/02;C09K17/40;C09K103/00 |
| 代理公司： | 重庆缙云专利代理事务所(特殊普通合伙) 50237 | 代理人： | 王翔 |
| 地址： | 310000 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 化学 改良 帷幕 降水 基坑 止水 结构 施工 方法 | ||
1.一种化学改良帷幕和井点降水的基坑止水结构，其特征在于：包括所述基坑支挡结构(3)、化学改良注浆帷幕(4)、冠梁(5)、坡面混凝土(6)和降水井(7)；
所述化学改良注浆帷幕(4)布置在基坑上端口的土体内，化学改良注浆帷幕(4)由化学改良试剂注入粉土施工而成，化学改良试剂为水玻璃与磷酸二氢铝的混合液、木质素磺酸钙与水的混合液或聚丙烯酸钠与水的混合液；
所述基坑的侧壁进行放坡处理形成若干级边坡，每级边坡的上边缘均设置有若干降水井(7)，边坡上浇筑有坡面混凝土(6)；
所述基坑上端口的土体内布置有基坑支挡结构(3)，基坑支挡结构(3)靠近化学改良注浆帷幕(4)的内侧，基坑支挡结构(3)的顶部安装有冠梁(5)。
2.根据权利要求1所述的一种化学改良帷幕和井点降水的基坑止水结构，其特征在于：所述基坑支挡结构(3)为若干间隔布置的钻孔灌注桩或工法桩。
3.根据权利要求1所述的一种化学改良帷幕和井点降水的基坑止水结构，其特征在于：所述基坑上端的土体表面设置有用于储存降水井(7)排水的集水坑(8)，基坑的顶部和底部均设置有浆砌截水沟(9)。
4.一种化学改良帷幕和井点降水的基坑止水结构，其特征在于：包括基坑支挡结构(3)、化学改良注浆帷幕(4)、冠梁(5)、降水井(7)和横梁(10)；
所述基坑支挡结构(3)沿基坑的竖直侧壁布置，基坑支挡结构(3)的顶部安装有冠梁(5)，所述基坑支挡结构(3)外侧的土体内设置有化学改良注浆帷幕(4)；
所述化学改良注浆帷幕(4)由化学改良试剂注入粉土施工而成，化学改良试剂为水玻璃与磷酸二氢铝的混合液、木质素磺酸钙与水的混合液或聚丙烯酸钠与水的混合液；
所述基坑呈矩形，横梁(10)与基坑的长度方向垂直，若干横梁(10)支撑在冠梁(5)之间，若干横梁(10)支撑在基坑支挡结构(3)之间；
所述基坑的上端和底部的土体内均设置有若干降水井(7)。
5.根据权利要求4所述的一种化学改良帷幕和井点降水的基坑止水结构，其特征在于：所述基坑支挡结构(3)为若干间隔布置的钻孔灌注桩或工法桩。
6.根据权利要求4所述的一种化学改良帷幕和井点降水的基坑止水结构，其特征在于：所述基坑上端的土体表面设置有用于储存降水井(7)排水的集水坑(8)，基坑的顶部和底部均设置有浆砌截水沟(9)。
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