[发明专利]一种图像传感器及其形成方法在审

专利信息
申请号: 202110493154.9 申请日: 2021-05-07
公开(公告)号: CN115312547A 公开(公告)日: 2022-11-08
发明(设计)人: 杨瑞坤 申请(专利权)人: 格科微电子(上海)有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种图像传感器形成方法,包括以下步骤:在栅极形成前,通过刻蚀工艺在半导体衬底上形成口径为第一宽度的凹槽结构;通过外延工艺使所述凹槽封闭,形成第一隔离区域,同时在所述凹槽中形成口径为第二宽度的中空间隙,用于第一感光区域的侧向隔离,所述第二宽度小于所述第一宽度。本发明还提供一种图像传感器,采用上述形成方法形成。本发明中的技术可以有效地隔离光在相邻像素单元的串扰,并能够减少其他隔离材料引起的应力问题,降低图像传感器的噪声。在栅极完成前实现该结构,与现有工艺有非常好的工艺兼容性。
搜索关键词: 一种 图像传感器 及其 形成 方法
【主权项】:
暂无信息
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