[发明专利]一种适用于真空环境下的金属纳米材料蒸着装置及方法在审

专利信息
申请号: 202110409701.0 申请日: 2021-04-16
公开(公告)号: CN113249688A 公开(公告)日: 2021-08-13
发明(设计)人: 李文欣;周元龙;何瑜鑫;赵鹏飞;聂谋智;龚友平;陈慧鹏;陈国金;刘海强;邵惠锋;陈昌 申请(专利权)人: 杭州电子科技大学
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;C23C14/16
代理公司: 杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙) 33240 代理人: 杨舟涛
地址: 310018*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明公开了一种适用于真空环境下的金属纳米材料蒸着装置和方法,包含上、下两个真空腔体,腔体之间设置有真空阀门;在上真空腔体内,主要设置有垂直操纵杆、高纯度金属棒、气体导入装置,气体导入装置通过针型阀连接丙醇,高纯度金属棒通过导线连接外部电源,垂直操纵杆上端通过限位器安装于上真空腔体上,限位器控制垂直操纵杆垂直移动并固定,垂直操纵杆下端开设有水平卡槽用于放置硅基底试样托;在下真空腔体内,主要设置有水平操纵杆、特制台架,特制台架底部为弹簧装置,特制台架上也开有水平卡槽用于放置目标基底试样托,水平操纵杆用于取放硅基底试样托以及目标基底试样托。该装置可使金属原子能以较低动能进行二次蒸着;设备成本、能耗较低。
搜索关键词: 一种 适用于 真空 环境 金属 纳米 材料 着装 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杭州电子科技大学,未经杭州电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110409701.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top