[发明专利]基板处理装置有效
| 申请号： | 202110407441.3 | 申请日： | 2021-04-15 |
| 公开（公告）号： | CN113522883B | 公开（公告）日： | 2023-05-16 |
| 发明（设计）人： | 松嶋大辅;出村健介;中村聪;神谷将也;中村美波 | 申请（专利权）人： | 芝浦机械电子株式会社 |
| 主分类号： | B08B7/00 | 分类号： | B08B7/00;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人： | 李雪春;阎文君 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种基板处理装置，其能够抑制静电产生，且能够提高污染物的除去率。实施方式所涉及的基板处理装置具备：放置台，能够使基板进行旋转；冷却部，能够向所述放置台与所述基板之间的空间供给冷却气体；第1液体供给部，能够向所述基板的所述放置台侧的相反面供给第1液体；第2液体供给部，能够向所述基板的所述面供给导电率高于所述第1液体的第2液体；及控制部，对所述基板的旋转、所述冷却气体的供给、所述第1液体的供给、所述第2液体的供给进行控制。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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