[发明专利]等离子体处理装置及等离子体处理方法在审
申请号: | 202110404343.4 | 申请日: | 2021-04-15 |
公开(公告)号: | CN113571403A | 公开(公告)日: | 2021-10-29 |
发明(设计)人: | 永海幸一 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 徐殿军 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明的等离子体处理装置具备腔室、基板支承器及电源系统。基板支承器具有电极,构成为在腔室内支承基板。电源系统与电极电连接。电源系统构成为在第1期间将第1脉冲作为偏置电压输出至电极,并在第1期间之后的第2期间将第2脉冲作为偏置电压输出至电极。第1脉冲及第2脉冲分别为电压的脉冲。第1脉冲的电压电平与第2脉冲的电压电平不同。 | ||
搜索关键词: | 等离子体 处理 装置 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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