[发明专利]等离子体处理装置及等离子体处理方法

权利要求书

1.一种等离子体处理装置，其具备：

腔室；

基板支承器，具有电极，并且构成为在所述腔室内支承基板；及

电源系统，与所述电极电连接，并且构成为向所述电极施加偏置电压以将离子从所述腔室内的等离子体吸引到所述基板支承器的基板上，

所述电源系统构成为在第1期间将第1脉冲作为所述偏置电压输出至所述电极，并在所述第1期间之后的第2期间将第2脉冲作为所述偏置电压输出至所述电极，

所述第1脉冲及所述第2脉冲分别为电压的脉冲，

所述第1脉冲的电压电平与所述第2脉冲的电压电平不同。

2.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其中，

所述第2期间连续于所述第1期间，

所述第1脉冲及所述第2脉冲分别为负极性电压的脉冲，

所述第1脉冲的电压电平的绝对值小于所述第2脉冲的电压电平的绝对值。

3.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其中，

所述第1脉冲及所述第2脉冲分别为负极性电压的脉冲，

所述第1脉冲的电压电平的绝对值大于所述第2脉冲的电压电平的绝对值，

所述电源系统构成为在所述第1期间与所述第2期间之间的期间向所述电极的输出电压为0V。

4.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其中，

所述第2期间连续于所述第1期间，

所述第1脉冲及所述第2脉冲分别为负极性电压的脉冲，

所述第1脉冲的电压电平的绝对值大于所述第2脉冲的电压电平的绝对值。

5.根据权利要求4所述的等离子体处理装置，其中，

所述电源系统构成为在所述第2期间之后的第3期间向所述电极输出第3脉冲，

所述第3脉冲为负极性电压的脉冲，

所述第3脉冲的电压电平的绝对值大于所述第2脉冲的电压电平的绝对值。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的等离子体处理装置，其中，

所述第1脉冲及所述第2脉冲分别为负极性电压的脉冲，

所述电源系统构成为在分别包含所述第1期间及所述第2期间的两个周期中的后续周期内的所述第1期间开始前，将正极性电压的脉冲输出至所述电极。

7.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其中，

所述电源系统构成为在所述第1期间将所述第1脉冲间歇地输出至所述电极，并在所述第2期间将所述第2脉冲间歇地输出至所述电极。

8.根据权利要求7所述的等离子体处理装置，其中，

所述第1脉冲及所述第2脉冲分别为负极性电压的脉冲，

所述电源系统构成为在所述第1期间将所述第1脉冲和正极性电压的脉冲交替地输出至所述电极，并在所述第2期间将所述第2脉冲和正极性电压的脉冲交替地输出至所述电极。

9.根据权利要求7所述的等离子体处理装置，其中，

所述第1脉冲及所述第2脉冲分别为负极性电压的脉冲，

所述电源系统构成为在所述第1期间与所述第2期间之间的期间将正极性电压的脉冲输出至所述电极。

10.一种等离子体处理方法，其包括：

在设置于等离子体处理装置的腔室内的基板支承器上准备基板的工序，其中，该基板支承器包含电极；

在第1期间从电源系统向所述电极输出第1脉冲作为用于将离子从所述腔室内的等离子体吸引到所述基板的偏置电压的工序；及

在第2期间从所述电源系统向所述电极输出第2脉冲作为所述偏置电压的工序，

所述第1脉冲及所述第2脉冲分别为电压的脉冲，

所述第1脉冲的电压电平与所述第2脉冲的电压电平不同。