[发明专利]具有主动式底架支撑件的光刻设备在审
| 申请号： | 202110397458.5 | 申请日： | 2016-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN112965346A | 公开（公告）日： | 2021-06-15 |
| 发明（设计）人： | H·巴特勒;B·H·M·布克基马;C·A·L·德霍恩;M·W·J·E·威吉克曼斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 闫红 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种光刻设备包括：构造成形成光刻设备的支撑结构的底架、布置在底架与地板之间的主动式底架支撑件。该主动式底架支撑件配置成在底板上支撑底架。该主动式底架支撑件包括致动器，该致动器配置成在底架与地面之间沿水平方向施加力。该光刻设备还包括控制装置，该控制装置配置成驱动致动器，表示该底架上的扰动力的信号被提供至控制装置，该控制装置配置成使用力传感器信号来驱动致动器。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 主动 底架 支撑 光刻 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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