[发明专利]具有主动式底架支撑件的光刻设备在审
申请号: | 202110397458.5 | 申请日: | 2016-11-17 |
公开(公告)号: | CN112965346A | 公开(公告)日: | 2021-06-15 |
发明(设计)人: | H·巴特勒;B·H·M·布克基马;C·A·L·德霍恩;M·W·J·E·威吉克曼斯 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 闫红 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 主动 底架 支撑 光刻 设备 | ||
一种光刻设备包括:构造成形成光刻设备的支撑结构的底架、布置在底架与地板之间的主动式底架支撑件。该主动式底架支撑件配置成在底板上支撑底架。该主动式底架支撑件包括致动器,该致动器配置成在底架与地面之间沿水平方向施加力。该光刻设备还包括控制装置,该控制装置配置成驱动致动器,表示该底架上的扰动力的信号被提供至控制装置,该控制装置配置成使用力传感器信号来驱动致动器。
本申请是发明名称为“具有主动式底架支撑件的光刻设备”、申请日为2016年11月17日、申请号为201680074430.5的中国专利申请的分案申请。
相关申请的交叉引用
本申请要求于2015年12月21日提交的欧洲申请15201466.8的优先权,并且它通过引用而全文合并到本发明中。
技术领域
本发明涉及一种具有主动式底架支撑件的光刻设备。
背景技术
光刻设备是一种将所需的图案施加到衬底上(通常施加到衬底的目标部分上)的机器。例如,可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下,可以将可替代地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成待形成于所述IC的单层上的电路图案。可以将所述图案转移到衬底(例如,硅晶片)上的目标部分(例如,包括一部分管芯、一个或更多个管芯)上。通常将图案成像到设置于衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上来进行所述图案的转移。通常,单个衬底将包含被连续地图案化的相邻目标部分的网络。常规的光刻设备包括:所谓的步进机,在所述步进机中,通过将整个图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分;以及所谓的扫描器,在所述扫描器中,通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案、同时沿与所述方向平行或反向平行的方向同步地扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。也可能通过将图案压印至衬底上而将图案从图案形成转移至衬底。
在光刻设备中,支撑件(诸如衬底的支撑件或图案形成装置的支撑件)在操作期间移动,例如,以执行扫描移动。此外,设置致动器(诸如电动马达或多个电动马达,例如,平面马达)。致动器可以(例如)包括在较小的移动范围上执行准确的定位的短行程致动器与在大的移动范围上提供定位的长行程致动器的组合。致动器相对于配重移动支撑件。由于支撑件(加上由所述支撑件保持的衬底或图案形成装置)的重心与配重的重心不重合,因此在配重上的反作用合力可以在配重上提供力矩。支撑件可以被定位在配重的顶部上(即,在Z方向上被间隔开),如果由致动器的水平力(例如,x方向或y方向上的力)在配重上提供沿相对方向的反作用力以及分别围绕x方向和/或y方向的力矩。X方向和Y方向被定义为形成垂直于Z方向的水平面。
配重由光刻设备的底架支撑,底架依次由被布置了光刻设备的建筑物的地面(例如,地板、基座等)支撑。
反向移动的振动、力矩和作用易于在支撑件的定位中引起扰动,该扰动可能引起光刻设备的重叠误差。
在不提供配重的状况下,支撑件的移动可以类似地在光刻设备的底架上引起扰动力。由于不存在配重的平衡效应,底架上的扰动力甚至可以是更加严重。
发明内容
期望的是,提供所述支撑件的准确定位。
根据本发明的实施例,提供了一种光刻设备,包括:
底架,构造成形成所述光刻设备的支撑结构,
主动式底架支撑件,配置成在地面上支撑所述底架,所述主动式底架支撑件包括致动器,所述致动器配置成在所述底架上沿水平方向施加力,
所述光刻设备还包括:
控制装置,配置成驱动所述致动器,表示所述底架上的力的信号被提供至所述控制装置,所述控制装置配置成基于表示所述底架上的所述力的所述信号驱动所述致动器。
附图说明
现在仅通过举例的方式参考所附的示意图来描述本发明的实施例,附图中相应的附图标记表示相应的部件,并且其中:
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