[发明专利]用于具有集成二极管的IGBT器件的隔离结构在审

专利信息
申请号: 202110382000.2 申请日: 2021-04-09
公开(公告)号: CN113517272A 公开(公告)日: 2021-10-19
发明(设计)人: M·戴内塞;C·李;A·莫泽;W·瓦格纳 申请(专利权)人: 英飞凌科技奥地利有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L29/06
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 刘茜璐;周学斌
地址: 奥地利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 根据半导体器件的实施例,该器件包括具有晶体管区和二极管区的半导体衬底。晶体管区包括多个IGBT单元和电荷载流子补偿区,该电荷载流子补偿区被配置为基于IGBT单元的导通状态或截止状态从漂移区排出少数电荷载流子或将少数电荷载流子接纳到漂移区。二极管区包括多个二极管单元。在晶体管区和二极管区之间提供隔离结构。隔离结构包括沿二极管区的外围的至少部分纵向延伸的第一沟槽和插入在第一沟槽和晶体管区之间的第二沟槽。电荷载流子补偿区延伸到隔离结构的第二沟槽而不是第一沟槽,使得电荷载流子补偿区与二极管区的阳极电位电隔离。
搜索关键词: 用于 具有 集成 二极管 igbt 器件 隔离 结构
【主权项】:
暂无信息
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