[发明专利]投影装置以及校正方法在审
| 申请号： | 202110335731.1 | 申请日： | 2021-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN115150593A | 公开（公告）日： | 2022-10-04 |
| 发明（设计）人： | 吴佳政;钟佳琪 | 申请（专利权）人： | 中强光电股份有限公司 |
| 主分类号： | H04N9/31 | 分类号： | H04N9/31 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 刘佳斐 |
| 地址： | 中国台湾新竹*** | 国省代码： | 台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种投影装置，该投影装置包括镜头模块、移动单元、感测单元以及镜头控制单元。当镜头模块移动至原点位置时，镜头控制单元控制影像光束在远距模式与广角模式的其中一个下聚焦于参考平面的第一位置上，并且镜头控制单元控制影像光束在远距模式与广角模式的另一个下聚焦于参考平面上的第二位置，镜头控制单元判断第二位置与第一位置是否产生偏差，当产生偏差时，镜头控制单元基于第二位置与第一位置的偏差值，对应地对调整移动单元在远距模式与广角模式的移动参数值，以使影像光束在调整后的远距模式与广角模式下聚焦于参考平面的同一位置上，使成像画面在远距模式以及广角模式下具有良好的画面品质。 | ||
| 搜索关键词： | 投影 装置 以及 校正 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中强光电股份有限公司，未经中强光电股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110335731.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
