[发明专利]投影装置以及校正方法

权利要求书

1.一种投影装置，其特征在于，所述投影装置包括镜头模块、移动单元、感测单元以及镜头控制单元，其中

所述镜头模块具有远距模式以及广角模式，且所述镜头模块用于使影像光束在所述远距模式与所述广角模式的其中一个下聚焦于参考平面上；

所述移动单元用于调整所述镜头模块的位置；

所述感测单元用于侦测所述镜头模块的位置；以及

所述镜头控制单元用于电连接所述镜头模块、所述移动单元以及所述感测单元，其中当所述镜头模块移动至原点位置时，所述镜头控制单元控制所述影像光束在所述远距模式与所述广角模式的其中一个下聚焦于所述参考平面的第一位置上，并且所述镜头控制单元控制所述影像光束在所述远距模式与所述广角模式的另一个下聚焦于所述参考平面上的第二位置，所述镜头控制单元判断所述第二位置与所述第一位置是否产生偏差，当所述镜头控制单元判断所述第二位置与所述第一位置产生偏差值时，所述镜头控制单元基于所述第二位置与所述第一位置的所述偏差值，对应地对调整所述移动单元在所述远距模式与所述广角模式的移动参数值，以使所述影像光束在调整后的所述远距模式与所述广角模式下聚焦于所述参考平面的同一位置上。

2.根据权利要求1所述的投影装置，其特征在于，所述影像光束在调整后的所述远距模式与所述广角模式下聚焦于所述参考平面的同一位置为所述第一位置与所述第二位置的其中一个。

3.根据权利要求2所述的投影装置，其特征在于，所述移动单元在所述远距模式与所述广角模式的其中一个下的移动参数值保持不变，而调整所述移动单元在所述远距模式与所述广角模式的另一个下的移动参数值，直至所述影像光束在调整后的所述远距模式与所述广角模式下聚焦于所述参考平面的所述第一位置与所述第二位置的其中一个。

4.根据权利要求3所述的投影装置，其特征在于，当所述影像光束在调整后的所述远距模式与所述广角模式下聚焦于所述参考平面的所述第一位置或所述第二位置时，所述镜头控制单元记录此时的所述移动单元的移动参数值，并储存至储存单元中，以制作偏移补偿表信息。

5.根据权利要求1所述的投影装置，其特征在于，所述投影装置还包括：

储存单元，储存有偏移补偿表信息，所述镜头控制单元基于所述第二位置与所述第一位置的所述偏差值，读取所述偏移补偿表信息纪录的对应的所述移动单元在所述远距模式与所述广角模式的移动参数值。

6.根据权利要求1所述的投影装置，其特征在于，当所述镜头模块移动至所述原点位置时，所述感测单元提供原点位置信息信号，当所述感测单元提供所述原点位置信息信号时，所述镜头控制单元控制所述移动单元使所述镜头模块停止移动，并设定所述移动单元的移动参数值为原点参数值。

7.根据权利要求6所述的投影装置，其特征在于，所述原点位置设置有凸挡结构，当所述镜头模块移动至所述原点位置时，所述凸挡结构触发所述感测单元提供所述原点位置信息信号。

8.根据权利要求1所述的投影装置，其特征在于，所述移动单元包括在多个方向上对应设置的多个步进马达，且在同一方向仅设置一个所述步进马达，所述移动单元的移动参数值为所述步进马达的步数。

9.根据权利要求1所述的投影装置，其特征在于，所述感测单元包括在多个方向上对应设置的多个感测元件，且在同一方向仅设置有一个所述感测元件。