[发明专利]投影装置以及校正方法

说明书

本发明提供一种投影装置，该投影装置包括镜头模块、移动单元、感测单元以及镜头控制单元。当镜头模块移动至原点位置时，镜头控制单元控制影像光束在远距模式与广角模式的其中一个下聚焦于参考平面的第一位置上，并且镜头控制单元控制影像光束在远距模式与广角模式的另一个下聚焦于参考平面上的第二位置，镜头控制单元判断第二位置与第一位置是否产生偏差，当产生偏差时，镜头控制单元基于第二位置与第一位置的偏差值，对应地对调整移动单元在远距模式与广角模式的移动参数值，以使影像光束在调整后的远距模式与广角模式下聚焦于参考平面的同一位置上，使成像画面在远距模式以及广角模式下具有良好的画面品质。

技术领域

本发明关于一种投影装置以及校正方法。

背景技术

现有的投影机的镜头装置的镜头位移模块在完成镜头校正后，可通过转动镜头上的变焦环，以调整镜头位置来进入广角模式或远距模式。然而，由于结构上零件的累积公差与组装公差，因此可能会造成广角模式的成像画面的原点或远距模式的成像画面的原点的偏移。一般而言，不同的镜头规格对于此种偏移有不同的容许范围，当偏移在容许范围值内，成像画面尚不致受影响，但一旦偏移超出容许范围值外，则广角模式的成像画面与远距模式的成像画面之间的效能会有所差异，且会有暗角产生，而对画面品质有不利的影响。并且，这种结构上零件的公差所形成的成像画面的中心的飘移是难以掌控的。

一般而言，为了减少上述的偏移，需要限缩零件公差与组装公差，以提高镜头位移模块的加工零件的精度，然而，如此一来，其良率会随之降低，零件成本也会随之上升，并且组装难度也会提高。

“背景技术”段落只是用来帮助了解本发明内容，因此在“背景技术”段落所公开的内容可能包含一些没有构成本领域技术人员所知道的现有技术。在“背景技术”段落所公开的内容，不代表该内容或者本发明一个或多个实施例所要解决的问题，在本发明申请前已被本领域技术人员所知晓或认知。

发明内容

本发明提供一种投影装置以及校正方法，能够在远距模式以及广角模式下具有良好的画面品质。

本发明的其他目的和优点可以从本发明所公开的技术特征中得到进一步的了解。

为达到上述之一或部分或全部目的或是其他目的，本发明的一实施例提出一种投影装置。投影装置包括一镜头模块、一移动单元、一感测单元以及一镜头控制单元。镜头模块具有一远距模式以及一广角模式，且镜头模块用于使一影像光束在远距模式下与广角模式下聚焦于一参考平面上。移动单元用于调整镜头模块的位置。感测单元用于侦测镜头模块的位置。一镜头控制单元与镜头模块、移动单元以及感测单元电连接，其中当镜头模块移动至一原点位置时，镜头控制单元控制影像光束在远距模式与广角模式的其中一个下聚焦于参考平面的一第一位置上，并且镜头控制单元控制影像光束在远距模式与广角模式的另一个下聚焦于参考平面上的一第二位置，镜头控制单元判断第二位置与第一位置是否产生偏差，当镜头控制单元判断第二位置与第一位置产生一偏差值时，镜头控制单元基于第二位置与第一位置的偏差值，对应地对调整移动单元在远距模式与广角模式的移动参数值，以使影像光束在调整后的远距模式与广角模式下聚焦于参考平面的同一位置上。

为达到上述之一或部分或全部目的或是其他目的，本发明的一实施例提出一种校正方法。校正方法用于对一投影装置的一镜头模块进行校正，其中镜头模块具有一远距模式以及广角模式，且校正方法包括下列步骤。通过一移动单元与一感测单元使镜头模块移动至一原点位置。控制一影像光束在远距模式与广角模式的其中一个下聚焦于参考平面的一第一位置上。控制影像光束在远距模式与广角模式的另一个下聚焦于参考平面上的一第二位置。判断第二位置与第一位置是否产生偏差，当镜头控制单元判断第二位置与第一位置产生一偏差值时，镜头控制单元基于第二位置与第一位置的偏差值，对应地对调整移动单元在远距模式与广角模式的移动参数值，以使影像光束在调整后的远距模式与广角模式下聚焦于参考平面的同一位置上。