[发明专利]边缘曝光工具及使用边缘曝光工具的方法在审

专利信息
申请号: 202110286051.5 申请日: 2021-03-17
公开(公告)号: CN114460813A 公开(公告)日: 2022-05-10
发明(设计)人: 吴泳铤;陈裕凯 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;H01L21/027
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国
地址: 中国台湾新竹市*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 一边缘曝光工具及使用边缘曝光工具的方法,边缘曝光工具可包括透镜调整装置,透镜调整装置能够自动化地调整边缘曝光透镜的多个参数以解决边缘曝光工具的操作参数的变化。在一些实施方式中,边缘曝光工具亦可包括控制器,控制器使用技术例如大数据探勘、机器学习、与类神经网络处理,能够决定用于边缘曝光透镜的边缘调整参数以及用于边缘曝光工具的曝光控制参数。透镜调整装置与控制器能够减少及/或防止边缘曝光工具的效能偏离容许值之外,可维持边缘曝光工具的操作效能并减少晶圆刮伤的可能性,并可减少可能由边缘曝光透镜的清洁与校准所引起的边缘曝光工具的停机时间。
搜索关键词: 边缘 曝光 工具 使用 方法
【主权项】:
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