[发明专利]边缘曝光工具及使用边缘曝光工具的方法在审
申请号: | 202110286051.5 | 申请日: | 2021-03-17 |
公开(公告)号: | CN114460813A | 公开(公告)日: | 2022-05-10 |
发明(设计)人: | 吴泳铤;陈裕凯 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H01L21/027 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国 |
地址: | 中国台湾新竹市*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 边缘 曝光 工具 使用 方法 | ||
1.一边缘曝光工具,其特征在于,包含:
一边缘曝光透镜;以及
一透镜调整装置,配置成根据一或多个边缘曝光透镜调整参数来自动化地调整该边缘曝光透镜的一或多个参数。
2.如权利要求1所述的边缘曝光工具,其特征在于,该一或多个边缘曝光透镜调整参数包含以下的至少一者:
一距离,位于该边缘曝光透镜与一晶圆的一顶表面之间,
该边缘曝光透镜的一第一部分的一垂直位置,
该边缘曝光透镜的一第二部分的一垂直位置,或
该边缘曝光透镜的一水平位置。
3.如权利要求1所述的边缘曝光工具,其特征在于,还包含:
一控制器,配置成决定该一或多个边缘曝光透镜调整参数。
4.一种使用边缘曝光工具的方法,其特征在于,包含:
透过一边缘曝光工具的一控制器决定用于该边缘曝光工具的一边缘曝光透镜的一或多个边缘曝光透镜调整参数;
透过该控制器致使该边缘曝光工具的一透镜调整装置根据该一或多个边缘曝光透镜调整参数来调整该边缘曝光透镜的一或多个参数;以及
在该边缘曝光透镜的该一或多个参数被调整之后,透过该控制器致使该边缘曝光透镜引导辐射朝向一晶圆或大致靠近该晶圆的一边缘处。
5.如权利要求4所述的方法,其特征在于,致使该边缘曝光工具的该透镜调整装置调整该边缘曝光透镜的该一或多个参数包含:
致使该边缘曝光工具的该透镜调整装置根据该一或多个边缘曝光透镜调整参数来调整该边缘曝光透镜与该晶圆之间的一距离。
6.如权利要求4所述的方法,其特征在于,致使该边缘曝光工具的该透镜调整装置调整该边缘曝光透镜的该一或多个参数包含:
致使该边缘曝光工具的该透镜调整装置根据该一或多个边缘曝光透镜调整参数来调整该边缘曝光透镜的一水平位置。
7.如权利要求4所述的方法,其特征在于,决定该一或多个边缘曝光透镜调整参数包含:
根据一或多个逐周期调控参数决定用于该边缘曝光工具的该一或多个边缘曝光透镜调整参数。
8.一边缘曝光工具,其特征在于,包含:
一真空吸盘,配置成支撑一晶圆;
一边缘曝光透镜,当该真空吸盘转动该晶圆时,该边缘曝光透镜配置成引导辐射朝向该晶圆的一边缘,该边缘曝光透镜包含:
一第一部分,及
一第二部分,与该第一部分交界;以及
一透镜调整装置,包含:
一第一透镜调整元件,配置成自动化地调整该第一部分的一或多个第一参数,及
一第二透镜调整元件,配置成自动化地调整该第二部分的一或多个第二参数。
9.如权利要求8所述的边缘曝光工具,其特征在于,该边缘曝光透镜进一步包含:
一垂直调整部分,连接至一装配板并与该第一部分交界;以及
一透镜部分,与该第二部分交界。
10.如权利要求8所述的边缘曝光工具,其特征在于,该透镜调整装置进一步包含:
一长形支撑件,配置成支撑该第一透镜调整元件与该第二透镜调整元件;以及
其中该第一透镜调整元件包含:
一壳体;以及
一第一支撑臂,附接至该壳体并配置成支撑该第一部分。
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