[发明专利]光掩模以及显示装置的制造方法

摘要

本发明提供光掩模以及显示装置的制造方法，具有通过使用中紫外曝光用光进行曝光，从而在被转印体上转印微细的孔图案的优异的转印性能。一种光掩模，光掩模是显示装置制造用的光掩模，光掩模用于在被转印体上使用中紫外曝光用光形成尺寸为Dp且Dp≤3μm的孔图案，在透明基板上具有包含孔图案的转印用图案，转印用图案中的孔图案由被半调区域包围的透光部构成，对于用于对光掩模进行曝光的中紫外曝光用光中包含的基准波长的光，透光部与半调区域的相位差θ大致为180度，并且半调区域对于基准波长的光的透射率T为10％≤T≤35％。