[发明专利]温度控制方法和等离子体处理装置在审
| 申请号： | 202110244864.8 | 申请日： | 2021-03-05 |
| 公开（公告）号： | CN113394070A | 公开（公告）日： | 2021-09-14 |
| 发明（设计）人： | 箕浦佑也;榎本果穗;坂井隼人 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种温度控制方法和等离子体处理装置。温度控制方法包括切换工序、点火工序、计算工序、第一控制工序及第二控制工序。在切换工序中，将向载置台的内部的流路供给的热介质从在进行蚀刻处理的情况下由第一温度控制部供给的第一温度的热介质切换为在进行清洁处理的情况下由第二温度控制部供给的第二温度的热介质。在点火工序中，开始供给清洁气体，并将等离子体点火。在斜率计算工序中，基于流路的出口侧的热介质的温度来计算热介质的温度变化的斜率。在第一控制工序中，控制第二温度控制部，直至流路的出口侧的热介质的温度稳定为第三温度为止。在第二控制工序中，控制第二温度控制部，以使流路的出口侧的热介质的温度成为设定值。 | ||
| 搜索关键词： | 温度 控制 方法 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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