[发明专利]再生靶材的方法及形成材料薄膜的方法在审
| 申请号： | 202110244712.8 | 申请日： | 2021-03-05 |
| 公开（公告）号： | CN115011928A | 公开（公告）日： | 2022-09-06 |
| 发明（设计）人： | 王柏伟;邱雅琴;林庭甫;林明贤 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/32;C23C14/34;C23C14/35;B08B7/00 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种再生靶材的方法及形成材料薄膜的方法，再生靶材的方法包括提供靶材。靶材具有一表面，且此表面具有再沉积薄膜。使用第一激光光束照射靶材的表面的整体。使用第二激光光束照射靶材的表面的一部分，以清除再沉积薄膜。 | ||
| 搜索关键词： | 再生 方法 形成 材料 薄膜 | ||
【主权项】：
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