[发明专利]研磨液供应喷头、系统以及研磨设备在审
| 申请号： | 202110195143.2 | 申请日： | 2021-02-20 |
| 公开（公告）号： | CN114952625A | 公开（公告）日： | 2022-08-30 |
| 发明（设计）人： | 康大沃;张月;杨涛;卢一泓;田光辉 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所;真芯（北京）半导体有限责任公司 |
| 主分类号： | B24B57/02 | 分类号： | B24B57/02 |
| 代理公司： | 北京兰亭信通知识产权代理有限公司 11667 | 代理人： | 苑晨超 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种研磨液供应喷头，包括：研磨液过滤器，入口与研磨液供应单元连通；研磨液喷嘴，与所述过滤器出口连通。还提供一种研磨液供应系统，包括：研磨液供应模块，用于提供研磨液；如上述任意一项所述的研磨液供应喷头，所述研磨液供应喷头与所述研磨液供应模块通过管道连通。还提供一种研磨设备，包括：旋转平台；研磨垫，设置在所述研磨平台上表面；如上述任意一项所述的研磨液供应系统，所述研磨液供应喷嘴设置在所述研磨垫的上方。本发明能够对大颗粒的聚集物进行过滤，避免出现大颗粒的聚集物对半导体器件的表面形成划痕。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 供应 喷头 系统 以及 设备 | ||
【主权项】：
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