[发明专利]研磨液供应喷头、系统以及研磨设备在审
| 申请号： | 202110195143.2 | 申请日： | 2021-02-20 |
| 公开（公告）号： | CN114952625A | 公开（公告）日： | 2022-08-30 |
| 发明（设计）人： | 康大沃;张月;杨涛;卢一泓;田光辉 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所;真芯（北京）半导体有限责任公司 |
| 主分类号： | B24B57/02 | 分类号： | B24B57/02 |
| 代理公司： | 北京兰亭信通知识产权代理有限公司 11667 | 代理人： | 苑晨超 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 研磨 供应 喷头 系统 以及 设备 | ||
1.一种研磨液供应喷头，其特征在于，包括：
研磨液过滤器，包括沿研磨液供应方向依次连通设置的过滤器入口、过滤单元以及过滤器出口；其中，所述过滤器入口用于与研磨液供应模块连通；
研磨液喷嘴，与所述过滤器出口连通。
2.根据权利要求1所述的研磨液供应喷头，其特征在于，所述研磨液过滤器包括两个以上的串联的研磨液过滤单元；两个以上的所述研磨液过滤单元的过滤孔径，沿研磨液的供应方向依次递减。
3.根据权利要求2所述的研磨液供应喷嘴，其特征在于，还包括过滤壳体，所述过滤壳体具有至少一个安装腔，所述研磨液过滤单元可拆卸的设置在所述安装腔内。
4.根据权利要求1所述的研磨液供应喷头，其特征在于，所述过滤单元的过滤孔径不大于10微米。
5.一种研磨液供应系统，其特征在于，包括：
研磨液供应模块，用于提供研磨液；
如权利要求1-4任意一项所述的研磨液供应喷头，所述研磨液供应喷头与所述研磨液供应模块通过管道连通。
6.根据权利要求5所述的研磨液供应系统，其特征在于，所述研磨液供应模块的出口具有供应模块过滤器，所述供应模块过滤器的出口通过管道与所述研磨液供应喷头连通。
7.根据权利要求5所述的研磨液供应系统，其特征在于，所述供应模块过滤器的过滤孔径不大于所述研磨液过滤器的过滤孔径。
8.根据权利要求5所述的研磨液供应系统，其特征在于，所述供应模块过滤器的过滤孔径为1～10微米。
9.根据权利要求5所述的研磨液供应系统，其特征在于，所述管道的长度不小于3米。
10.一种研磨设备，其特征在于，包括：
旋转平台；
研磨垫，设置在所述研磨平台上表面；
如权利要求5-9任意一项所述的研磨液供应系统，所述研磨液供应喷嘴设置在所述研磨垫的上方。
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