[发明专利]等离子体处理装置和构件温度判定方法在审
| 申请号： | 202110172174.6 | 申请日： | 2021-02-08 |
| 公开（公告）号： | CN113299530A | 公开（公告）日： | 2021-08-24 |
| 发明（设计）人： | 河村浩司 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种等离子体处理装置和构件温度判定方法，高精度地判定处理容器内的构件的温度是否饱和。等离子体处理装置具有处理容器和电极，该等离子体处理装置还具有：预处理部，其构成为执行使等离子体点火来使处理容器内的构件的温度上升的预处理；功率施加部，其构成为在执行预处理后，以不使等离子体点火的方式向电极施加RF功率；测定部，其构成为测定与通过功率施加部施加的RF功率有关的物理量；以及判定部，其构成为基于通过测定部测定出的与RF功率有关的物理量，来判定处理容器内的构件的温度是否饱和。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 构件 温度 判定 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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