[发明专利]控制硅片TDH的设备和方法在审
| 申请号： | 202110121145.7 | 申请日： | 2021-01-28 |
| 公开（公告）号： | CN112880369A | 公开（公告）日： | 2021-06-01 |
| 发明（设计）人： | 史进;郭盾 | 申请（专利权）人： | 西安奕斯伟硅片技术有限公司;西安奕斯伟材料技术有限公司 |
| 主分类号： | F26B15/14 | 分类号： | F26B15/14;F26B15/18;F26B21/00;F26B25/00;B65B35/44;B65B57/14;B65B57/18 |
| 代理公司： | 北京远创理想知识产权代理事务所(普通合伙) 11513 | 代理人： | 李蔚君 |
| 地址： | 710032 陕西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种控制硅片TDH的设备和方法，所述控制硅片TDH的设备包括干燥箱和打包装置，所述干燥箱包括壳体、第一输送装置、干燥装置和第一湿度检测装置，所述壳体的两端设置有进料口和出料口，所述第一输送装置穿过所述壳体，所述第一输送装置的两端分别位于所述进料口和出料口处，所述第一输送装置上能够放置多个片盒，所述干燥装置沿着所述第一输送装置的输送方向设置，所述第一湿度检测装置能够检测所述出料口处的片盒的湿度，所述打包装置的进口连接所述出料口，所述打包装置能够打包所述出料口输出的所述片盒。本发明提供的控制硅片TDH的设备和方法能够有效减少硅片出现TDH现象。 | ||
| 搜索关键词： | 控制 硅片 tdh 设备 方法 | ||
【主权项】：
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