[发明专利]高附着率的电容器基膜及其制备装置、方法在审
| 申请号： | 202110095780.2 | 申请日： | 2021-01-25 |
| 公开（公告）号： | CN112768236A | 公开（公告）日： | 2021-05-07 |
| 发明（设计）人： | 麦灼棠 | 申请（专利权）人： | 安徽旭峰电容器有限公司 |
| 主分类号： | H01G4/18 | 分类号： | H01G4/18;H01G4/33;H01G13/00 |
| 代理公司： | 合肥东信智谷知识产权代理事务所(普通合伙) 34143 | 代理人： | 朱军 |
| 地址： | 242000 安徽省宣*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 高附着率的电容器基膜，所述电容器基膜为2.8～3.8微米厚度的双向拉伸聚丙烯薄膜，所述电容器基膜表面凹设有不规则排布的纳米级微孔槽。本发明对双向拉伸聚丙烯薄膜(BOPP)表面进行电晕处理，以形成不规则排布的纳米级微孔槽，增加其表面粗糙度和表面积，提高其表面附着率，保证后期金属化薄膜的合格率。 | ||
| 搜索关键词： | 附着 电容器 及其 制备 装置 方法 | ||
【主权项】：
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