[发明专利]一种高度可控的聚合物微米线阵列的制备方法在审
| 申请号： | 202110095723.4 | 申请日： | 2021-01-25 |
| 公开（公告）号： | CN114789988A | 公开（公告）日： | 2022-07-26 |
| 发明（设计）人： | 赵金金;高寒飞;吴雨辰 | 申请（专利权）人： | 中国科学院理化技术研究所 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00;G03F7/16;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京正理专利代理有限公司 11257 | 代理人： | 高东丽 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开一种高度可控的聚合物微米线阵列的制备方法，包括以下步骤：将聚合物溶液滴加在柔性光刻胶模板和基底之间，形成三明治结构，将该三明治结构置于压力可调的施压装置中，然后施压、加热干燥、冷却，拆下柔性光刻胶模板，在基底上得到高度可控的聚合物微米线阵列。当施加的压力改变时，光刻胶模板和基底之间的间距发生变化，使扎钉在基底和光刻胶模板之间的聚合物溶液毛细液桥的高度发生改变，同时柔性光刻胶模板也会发生轻微形变，溶剂完全挥发后得到高度可控的聚合物微米线。因此，聚合物微米线阵列在长、宽、高三个尺度上均是可控的，微米线阵列均一性更高；同时该制备方法为图案化制备聚合物并将其用于微电子电路中提供了新思路。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 高度 可控 聚合物 微米 阵列 制备 方法 | ||
【主权项】：
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