[发明专利]用于等离子体辅助的化学气相沉积的设备、系统和方法在审
| 申请号： | 202110084312.5 | 申请日： | 2021-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN114182234A | 公开（公告）日： | 2022-03-15 |
| 发明（设计）人： | 米尔科·特罗勒;延斯－乌韦·福克斯;拉尔夫·瑞兹;罗兰·莱希特 | 申请（专利权）人： | 商先创国际股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/50 | 分类号： | C23C16/50;C23C16/455;C23C16/458;C23C16/46 |
| 代理公司： | 北京金恒联合知识产权代理事务所 11324 | 代理人： | 李强 |
| 地址： | 德国布劳*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及用于等离子体辅助的化学气相沉积的设备(1)、系统(50)和方法(100)。在此，处理室(2)被配置成用于接纳至少一个工件载体(30)。根据本发明，该设备(1)被配置为用于借助于至少一个能够被该处理室(2)接纳的工件载体(30)来加热该处理室(2)。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 等离子体 辅助 化学 沉积 设备 系统 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
