[发明专利]基于Mask RCNN实例分割的SEM图像分子筛粒径统计方法和系统在审
| 申请号： | 202110070200.4 | 申请日： | 2021-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN112651989A | 公开（公告）日： | 2021-04-13 |
| 发明（设计）人： | 杜文莉;钱锋;彭鑫;钟伟民;杨明磊 | 申请（专利权）人： | 华东理工大学 |
| 主分类号： | G06T7/194 | 分类号： | G06T7/194;G06T7/11;G06K9/32;G06K9/34;G06K9/46;G06K9/62;G06N3/04;G06N3/08 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 施浩 |
| 地址： | 200237 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于Mask RCNN实例分割的SEM图像分子筛粒径统计方法和系统，提升分子筛粒径统计效率。其技术方案为：获取扫描电子显微镜图像，即SEM图像，以及相应的操作文件，构建相应的SEM图像样本库；对构建的SEM图像样本库中的原始图像进行实例分割标注，构建SEM图像实例分割数据集；构建Mask RCNN实例分割模型；利用得到的SEM图像实例分割数据集对构建的Mask RCNN实例分割模型进行训练及参数调整；利用训练后的Mask RCNN实例分割模型完成对SEM图像样本的分子筛实例分割；根据得到的SEM图像分子筛实例分割的结果计算SEM图像中分子筛粒径大小，从而实现对分子筛粒径的统计。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 mask rcnn 实例 分割 sem 图像 分子筛 粒径 统计 方法 系统 | ||
【主权项】：
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