[发明专利]一种防镭射膜制备方法在审
| 申请号： | 202110053762.8 | 申请日： | 2021-01-15 |
| 公开（公告）号： | CN112793322A | 公开（公告）日： | 2021-05-14 |
| 发明（设计）人： | 李鹏飞;张旭光;钟妹 | 申请（专利权）人： | 浙江茉织华印刷股份有限公司 |
| 主分类号： | B41M3/00 | 分类号： | B41M3/00;B41M3/14 |
| 代理公司： | 杭州华鼎知识产权代理事务所(普通合伙) 33217 | 代理人： | 俞宏涛 |
| 地址： | 314205 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种防镭射膜制备方法，包括基膜和底纹纸，所述底纹纸包括纸张本体和设置在纸张本体上的调幅网点，依次包括以下步骤：步骤一底纹纸制备、步骤二基膜涂布、步骤三模压、步骤四镀铝和步骤五分切；本发明的优点：由于步骤一采用调节调幅网点和调整线条的数量来模拟所需的图文信息，通过调幅网点来表现图像的层次，并通过调整线条来增强图文折光效果，使其能模拟不同的图文信息，使其适应不同的客户需求，图文可变性强，修改方便，制作快捷周期短，客户可直观看到整体效果，制作成本仅占模具制作的20％左右，客户不需要为定做模具而长时间等待，能快速响应客户的各类印量需求，而且制作后的防镭射膜表面图文折光效果突出。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 镭射 制备 方法 | ||
【主权项】：
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