[发明专利]一种防镭射膜制备方法

权利要求书

1.一种防镭射膜制备方法，包括基膜，其特征在于：还包括底纹纸，所述底纹纸包括纸张本体和设置在纸张本体上的调幅网点，所述纸张本体上还设有增强图文折光效果的调整线条，依次包括以下步骤：

步骤一：底纹纸制备：通过调节调幅网点和调整线条的数量来模拟所需的图文信息；

步骤二：基膜涂布：通过涂布机将涂料均匀的涂布在基膜上，并通过五节烘箱进行烘烤，涂布机的速度为100～120m/min，在每平方PET基膜内所述离型层涂料的涂布量为5.12～6.05g，第一节箱体的温度比第二节箱体的温度低20～25％，第三节箱体的温度比第二节箱体的温度高10～20％，第四节箱体的温度等于第三节箱体的温度，第五节箱体的温度等于第二节箱体的温度，第一节箱体的温度为85～100℃；

步骤三：模压：将步骤一模拟后的图文信息压制在步骤二处理的基膜上，模压温度为180～190℃；

步骤四：镀铝：在步骤三处理后的基膜上通过真空镀铝在基膜表面涂覆一层铝层，镀覆时的真空度为1.3×10^-2～1.3×10^-3Pa，镀覆时的温度为1200～1400℃；

步骤五：分切：对步骤四处理后基膜进行分切处理。

2.根据权利要求1所述的一种防镭射膜制备方法，其特征在于：步骤一中的通过调节调整网点的大小或形状或面积来调整图文信息。

3.根据权利要求1所述的一种防镭射膜制备方法，其特征在于：所述调整线条通过油墨印制在纸张本体上。

4.根据权利要求3所述的一种防镭射膜制备方法，其特征在于：所述调整线条在纸张本体上呈水平方向或/和竖直方向设置。

5.根据权利要求1所述的一种防镭射膜制备方法，其特征在于：步骤二中的涂料包括以下组分组成：25.7～31.4质量份的丙烯酸酯类共聚物、8.03～9.11质量份的乙酸丙酸纤维素、28.06～35.84质量份的醋酸正丙酯和15.21～17.56质量份的正丙醇。

6.根据权利要求1所述的一种防镭射膜制备方法，其特征在于：步骤二中五节烘箱的温度分别为95℃、120℃、135℃、135℃和120℃。

7.根据权利要求1所述的一种防镭射膜制备方法，其特征在于：步骤四中铝层的厚度为280～320埃。

8.根据权利要求1所述的一种防镭射膜制备方法，其特征在于：步骤五中的基膜通过分切机进行分切处理，且所述分切机通过PLC控制。