[发明专利]一种金属有机化学气相沉淀设备有效
申请号: | 202110025494.9 | 申请日: | 2021-01-08 |
公开(公告)号: | CN112853310B | 公开(公告)日: | 2022-03-22 |
发明(设计)人: | 袁文;阳曦;郑忻宇;马佳俊 | 申请(专利权)人: | 西南科技大学;绵阳市食品药品检验所 |
主分类号: | C23C16/18 | 分类号: | C23C16/18;C23C16/44;C23C16/455 |
代理公司: | 郑州豫原知识产权代理事务所(普通合伙) 41176 | 代理人: | 吴林 |
地址: | 621000 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开了一种金属有机化学气相沉淀设备,包括反应壳,所述反应壳采用封闭的壳体,所述反应壳的底端外侧固定连接有多个支撑脚,所述反应壳的顶端固定且连通有气管,所述反应壳的内壁上固定连接有支撑杆,且支撑杆水平设置,所述支撑杆远离反应壳的一端固定连接有用于气相沉淀的反应托盘,所述反应托盘采用中空的矩形结构,所述反应托盘的顶端开设有开口。本发明通过设置升降机构,驱动第二减速电机,第二减速电机带动输出端的蜗杆转动,蜗杆进而带动与之啮合的蜗轮转动,蜗轮带动螺母转动,螺母带动螺杆上下运动,螺杆为升降机构的输出端,螺杆带动其底端的连接架和固定板上下运动,从而便于毛刷的清洁与刮刀的刮除。 | ||
搜索关键词: | 一种 金属 有机化学 沉淀 设备 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的