[发明专利]用于改进DUV激光对准的量测在审
| 申请号： | 202080089555.1 | 申请日： | 2020-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN114846702A | 公开（公告）日： | 2022-08-02 |
| 发明（设计）人： | 赵中全 | 申请（专利权）人： | 西默有限公司 |
| 主分类号： | H01S3/225 | 分类号： | H01S3/225;H01S3/13;H01S3/086;H01S3/105;H01S3/23;H01S3/00;H01S3/034;H01S3/08;H01S3/139 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 张宁 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 光源设备包括气体放电级、感测设备、光学布置、调整设备和控制设备。气体放电级包括光学放大器和一组光学元件，光学放大器包括被配置为保持输出光束的气体放电介质的腔室，光学元件被配置为在光学放大器周围形成光学谐振器。光学布置被配置为将来自气体放电级内的多个不同物平面的光成像到感测设备上。调整设备与气体放电级内的一个或多个光学组件物理通信，并且被配置为修改光学组件的至少一个几何方面。控制设备与感测设备和调整设备通信，基于来自感测设备的输出，向调整设备提供信号。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 改进 duv 激光 对准 | ||
【主权项】：
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