[发明专利]原子层沉积设备在审
| 申请号： | 202080047666.6 | 申请日： | 2020-06-26 |
| 公开（公告）号： | CN114026266A | 公开（公告）日： | 2022-02-08 |
| 发明（设计）人： | V·米库莱宁;H·阿米诺夫;P·索恩宁;P·J·索恩宁 | 申请（专利权）人： | BENEQ有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455;C23C16/52 |
| 代理公司： | 北京汇知杰知识产权代理有限公司 11587 | 代理人： | 吴焕芳;杨勇 |
| 地址： | 芬兰*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及原子层沉积设备(1)，该原子层沉积设备(1)包括真空室(20)、真空室(20)内的沉积室(2)、入口通道(5)，该入口通道(5)从真空室(20)的外部延伸到沉积室(2)，使得入口通道(5)连接到沉积室(2)，用于将气体供应到沉积室(2)、排放通道(6)，该排放通道(6)从沉积室(2)延伸到真空室(2)的外部，用于从沉积室(2)排放气体、连接到入口通道(5)的一个或多个第一前驱体供应源(3)、以及连接到入口通道(5)的一个或多个第二前驱体供应源(4、4’)。真空室(20)布置在一个或多个第一前驱体供应源(3)与一个或多个第二前驱体供应源(4)之间。 | ||
| 搜索关键词： | 原子 沉积 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
