[发明专利]基板处理方法以及基板处理装置在审
| 申请号： | 202080043121.8 | 申请日： | 2020-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN113950382A | 公开（公告）日： | 2022-01-18 |
| 发明（设计）人： | 吉田幸史 | 申请（专利权）人： | 株式会社斯库林集团 |
| 主分类号： | B08B3/02 | 分类号： | B08B3/02;B08B3/08;B08B7/00;H01L21/02;H01L21/67 |
| 代理公司： | 成都超凡明远知识产权代理有限公司 51258 | 代理人： | 王佳媛 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 基板处理方法包括：处理液供给工序，将处理液供给至基板的表面，处理膜形成工序，使所述基板的表面上的所述处理液固化或硬化，形成保持存在于所述基板的表面的除去对象物的处理膜，以及除去工序，通过向所述基板的表面供给除去液，在使所述处理膜保持有所述除去对象物的状态下，将所述处理膜从所述基板的表面除去。所述处理液包含使所述基板的表层以及所述除去对象物中的至少一者作为溶解对象物溶解的溶解成分。所述处理液供给工序包括溶解工序，在该溶解工序中，通过供给至所述基板的表面的所述处理液中的所述溶解成分，使所述溶解对象物局部溶解。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 方法 以及 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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