[发明专利]干涉仪系统、确定干涉仪系统的激光源的跳模的方法、确定可移动物体的位置的方法、和光刻设备在审
申请号: | 202080043037.6 | 申请日: | 2020-05-11 |
公开(公告)号: | CN113994266A | 公开(公告)日: | 2022-01-28 |
发明(设计)人: | M·J·詹森;M·K·姆里达;E·A·F·范德帕斯奇 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F9/00 | 分类号: | G03F9/00;G03F7/20;G01B9/02;G01J9/02 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 王益 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种干涉仪系统,所述干涉仪系统用于确定可移动物体的位置,所述干涉仪系统包括:激光源,所述激光源用于提供辐射束;光学系统,所述光学系统被布置成将所述辐射束拆分成沿第一光学路径的第一束和沿第二光学路径的第二束,其中所述光学系统被布置成将所述第一束与所述第二束重新组合成重新组合束;检测器,所述检测器用于接收所述重新组合束并且基于所接收的重新组合束来提供检测器信号;以及处理单元,其中所述第一光学路径的第一光程长度与所述第二光学路径的第二光程长度具有光程长度差,其中所述处理单元被布置成基于所述检测器信号中的相移来确定所述激光源的跳模。 | ||
搜索关键词: | 干涉仪 系统 确定 激光 方法 移动 物体 位置 光刻 设备 | ||
【主权项】:
暂无信息
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