[发明专利]干涉仪系统、确定干涉仪系统的激光源的跳模的方法、确定可移动物体的位置的方法、和光刻设备在审
申请号: | 202080043037.6 | 申请日: | 2020-05-11 |
公开(公告)号: | CN113994266A | 公开(公告)日: | 2022-01-28 |
发明(设计)人: | M·J·詹森;M·K·姆里达;E·A·F·范德帕斯奇 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F9/00 | 分类号: | G03F9/00;G03F7/20;G01B9/02;G01J9/02 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 王益 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 干涉仪 系统 确定 激光 方法 移动 物体 位置 光刻 设备 | ||
1.一种干涉仪系统,所述干涉仪系统用于确定可移动物体的位置,所述干涉仪系统包括:
激光源,所述激光源用于提供辐射束,
光学系统,所述光学系统被布置成将所述辐射束拆分成沿第一光学路径的第一束和沿第二光学路径的第二束,其中所述光学系统被布置成将所述第一束与所述第二束重新组合成重新组合束,
检测器,所述检测器用于接收所述重新组合束并且基于所接收的重新组合束来提供检测器信号,以及
处理单元,所述处理单元用于处理所述检测器信号,
其中所述第一光学路径的第一光程长度与所述第二光学路径的第二光程长度具有光程长度差,
其中所述处理单元被布置成基于所述检测器信号中的相移来确定所述激光源的跳模,所述相移由这样的跳模而产生。
2.根据权利要求1所述的干涉仪系统,其中所述光程长度差被选择成使得由跳模所引起的相移不等于2π。
3.根据权利要求1或2所述的干涉仪系统,其中所述光程长度差不等于k*c/Δf,其中k是整数,c是光速并且Δf是由跳模所引起的频率差。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的干涉仪系统,其中所述光程长度差等于(r+k)*c/Δf,其中r在0.1至0.9的范围内,k是整数,c是光速并且Δf是由跳模所引起的频率差。
5.根据权利要求4所述的干涉仪系统,其中k是0、1或2。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的干涉仪系统,其中所述处理单元被布置成观察所述检测器信号中的所述相移的导数的改变以便确定所述激光源的所述跳模。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的干涉仪系统,其中所述干涉仪系统是外差干涉仪系统,并且其中所述第一束和所述第二束中的至少一个被引导通过频移装置以在所述第一束的第一频率与所述第二束的第二频率之间产生频率差。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的干涉仪系统,其中所述重新组合束被用作参考束并且所述检测器是参考检测器。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的干涉仪系统,
其中所述激光源包括可调谐激光源,所述可调谐激光源被布置成提供具有可调谐光频率的所述辐射束,
其中所述干涉仪系统还包括固定频率激光源,所述固定频率激光源用于提供具有固定光频率的第二辐射束,
其中所述干涉仪系统被布置成确定所述可移动物体的绝对位置。
10.一种确定干涉仪系统的激光源的跳模的方法,包括:
从所述激光源发射辐射束,
将所述辐射束拆分成沿第一光学路径受引导的第一束和沿第二光学路径受引导的第二束,其中所述第一光学路径的第一光程长度与所述第二光学路径的第二光程长度具有光程长度差,
将所述第一束与所述第二束重新组合成重新组合束,
基于所述重新组合束来提供检测器信号,以及
处理所述检测器信号,以基于所述检测器信号中的相移来确定所述激光源的跳模,所述相移由这样的跳模而产生。
11.根据权利要求10所述的方法,其中所述方法包括观察所述检测器信号中的所述相移的导数改变以便确定所述激光源的所述跳模。
12.根据权利要求10或11所述的方法,其中所述方法包括引导所述第一束和所述第二束中的至少一个通过频移装置以在所述第一束的第一频率与所述第二束的第二频率之间产生频率差。
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