[发明专利]图案形成装置在审
| 申请号: | 202080032591.4 | 申请日: | 2020-04-02 |
| 公开(公告)号: | CN113811816A | 公开(公告)日: | 2021-12-17 |
| 发明(设计)人: | 玛丽亚-克莱尔·范拉尔;F·J·蒂默曼 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G03F1/24;G03F1/32;G03F1/50 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 胡良均 |
| 地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | 一种被配置用于光刻设备的图案形成装置,所述光刻设备被配置为使用辐射经由投影光学器件将所述图案形成装置的图案成像到衬底上。所述图案形成装置包括:第一部件,用于反射和/或透射所述辐射;以及第二部件,覆盖所述第一部件的表面的至少部分,并且被配置为至少部分地吸收入射到所述第二部件上的所述辐射。所述第二部件包括侧壁,其中所述侧壁的至少部分以一角度从所述第一部件延伸离开第一部分,所述角度是相对于平行于所述第一部件的所述表面的平面的,并且其中所述角度小于85度。 | ||
| 搜索关键词: | 图案 形成 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
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G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备





