[发明专利]曝光用镜、曝光用镜的制造方法以及具备该曝光用镜的曝光装置在审
| 申请号： | 202080029340.0 | 申请日： | 2020-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN113711127A | 公开（公告）日： | 2021-11-26 |
| 发明（设计）人： | 麻籍文;吉本芳幸 | 申请（专利权）人： | 株式会社V技术 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B5/08 |
| 代理公司： | 北京奉思知识产权代理有限公司 11464 | 代理人： | 邹轶鲛;石红艳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供能够以廉价的结构检测损伤、应变量等的镜的状态的曝光用镜、曝光用镜的制造方法、以及具备该曝光用镜的曝光装置。曝光用镜具备：反射膜，其形成于板状玻璃的表面侧，能够反射来自光源的光；以及导电性的成膜图案，其在板状玻璃的背面侧以比反射膜薄且从一端部到另一端部连续的方式成膜，成膜图案在曝光用镜损伤时断裂从而能够检测曝光用镜的损伤。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 制造 方法 以及 具备 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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