[发明专利]曝光用镜、曝光用镜的制造方法以及具备该曝光用镜的曝光装置在审

专利信息
申请号: 202080029340.0 申请日: 2020-04-07
公开(公告)号: CN113711127A 公开(公告)日: 2021-11-26
发明(设计)人: 麻籍文;吉本芳幸 申请(专利权)人: 株式会社V技术
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G02B5/08
代理公司: 北京奉思知识产权代理有限公司 11464 代理人: 邹轶鲛;石红艳
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 曝光 制造 方法 以及 具备 装置
【说明书】:

本发明提供能够以廉价的结构检测损伤、应变量等的镜的状态的曝光用镜、曝光用镜的制造方法、以及具备该曝光用镜的曝光装置。曝光用镜具备:反射膜,其形成于板状玻璃的表面侧,能够反射来自光源的光;以及导电性的成膜图案,其在板状玻璃的背面侧以比反射膜薄且从一端部到另一端部连续的方式成膜,成膜图案在曝光用镜损伤时断裂从而能够检测曝光用镜的损伤。

技术领域

本发明涉及曝光用镜、曝光用镜的制造方法以及具备该曝光用镜的曝光装置,更详细而言,涉及能够检测曝光用镜的损伤、应变量等镜的状态的曝光用镜、曝光用镜的制造方法、以及具备该曝光用镜的曝光装置。

背景技术

在接近式曝光装置中,在涂布有感光材料的被曝光基板上,将形成有曝光图案的掩模以数10μm~数100μm的间隙接近配置,经由掩模照射来自光照明装置的曝光光,将曝光图案转印到被曝光基板。

另外,在专利文献1中提出了如下的接近式曝光方法及其装置:在光路反转镜的背面的多个部位配备能够微小位移的致动器,调整光路反转镜的局部的曲率来进行曝光用照明光的平行度的调整以及掩模的局部的伸缩等的校正。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开平7-201711号公报

发明内容

发明欲解决的技术问题

然而,由于光路反转镜是玻璃制的,因此在致动器想要过度地变更光路反转镜的局部的曲率的情况下,有可能在光路反转镜产生裂纹等损伤。在曝光装置中,由于光路反转镜的损伤会对被曝光的产品质量产生影响,因此在万一光路反转镜损伤的情况下,需要立即检测出光路反转镜的损伤。

作为检测反转镜的破损的方法,可以考虑利用声波根据玻璃的破损声波形进行破损检测的方法、通过直接从玻璃面检测玻璃破损时的振动波形来进行破损检测的方法。然而,在使用玻璃的破损声波形、破损时的振动波形的检测方法中,受到装置自身的动作声音、振动的影响,误检测多,难以进行稳定的破损检测。此外,检测器自身的结构变得复杂且昂贵,存在改善的余地。

本发明是鉴于上述课题而完成的,其目的在于提供一种能够以廉价的结构对损伤、应变量等的镜的状态进行检测的曝光用镜、曝光用镜的制造方法、以及具备该曝光用镜的曝光装置。

用于解决问题的技术手段

本发明的上述目的通过下述的结构来实现。

(1)一种曝光用镜,用于反射来自光源的光,该曝光用镜具备:

反射膜,所述反射膜形成于板状玻璃的表面侧,能够反射来自所述光源的光;以及

导电性的成膜图案,所述导电性的成膜图案以比所述反射膜薄且从一端部到另一端部连续的方式成膜于所述板状玻璃的背面侧。

(2)根据(1)所述的曝光用镜,其中,

所述成膜图案在所述曝光用镜损伤时断裂从而能够检测所述曝光用镜的损伤。

(3)根据(1)或(2)所述的曝光用镜,其中,

所述成膜图案沿着所述板状玻璃的外周部成膜。

(4)根据(1)或(2)所述的曝光用镜,其中,

所述成膜图案以从所述一端部经过所述板状玻璃的外周部和内部到所述另一端部连续的方式成膜。

(5)根据(1)或(2)所述的曝光用镜,

所述成膜图案在从所述一端部到所述另一端部之间,并联连接有电阻值各不相同的多个图案。

(6)根据(1)或(2)所述的曝光用镜,

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