[发明专利]曝光用镜、曝光用镜的制造方法以及具备该曝光用镜的曝光装置在审

专利信息
申请号: 202080029340.0 申请日: 2020-04-07
公开(公告)号: CN113711127A 公开(公告)日: 2021-11-26
发明(设计)人: 麻籍文;吉本芳幸 申请(专利权)人: 株式会社V技术
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G02B5/08
代理公司: 北京奉思知识产权代理有限公司 11464 代理人: 邹轶鲛;石红艳
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 曝光 制造 方法 以及 具备 装置
【权利要求书】:

1.一种曝光用镜,用于反射来自光源的光,所述曝光用镜的特征在于,具备:

反射膜,所述反射膜形成于板状玻璃的表面侧,能够反射来自所述光源的光;以及

导电性的成膜图案,所述导电性的成膜图案以比所述反射膜薄且从一端部到另一端部连续的方式成膜于所述板状玻璃的背面侧。

2.根据权利要求1所述的曝光用镜,其特征在于,

所述成膜图案在所述曝光用镜损伤时断裂从而能够检测所述曝光用镜的损伤。

3.根据权利要求1或2所述的曝光用镜,其特征在于,

所述成膜图案沿着所述板状玻璃的外周部成膜。

4.根据权利要求1或2所述的曝光用镜,其特征在于,

所述成膜图案以从所述一端部经过所述板状玻璃的外周部和内部到所述另一端部连续的方式成膜。

5.根据权利要求1或2所述的曝光用镜,其特征在于,

所述成膜图案在从所述一端部到所述另一端部之间,并联连接有电阻值各不相同的多个图案。

6.根据权利要求1或2所述的曝光用镜,其特征在于,

在应力作用于所述成膜图案时,所述成膜图案的电阻值发生变化,从而能够检测所述曝光用镜的应变量。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的曝光用镜,其特征在于,

所述反射膜和所述成膜图案由相同的金属材料成膜。

8.一种曝光用镜的制造方法,所述曝光用镜用于反射来自光源的光,所述曝光用镜的制造方法的特征在于,具备:

在板状玻璃的背面侧,对从一端部到另一端部连续的导电性的成膜图案的周围进行遮蔽的工序;以及

从所述板状玻璃的表面侧蒸镀或溅射金属材料,从而将能够反射来自所述光源的光的反射膜成膜在所述板状玻璃的表面侧且将所述成膜图案成膜在所述板状玻璃的背面侧的工序。

9.一种曝光装置,其特征在于,

具备照明装置,所述照明装置具有:光源;积分器,所述积分器使来自所述光源的光均匀地射出;以及权利要求1~7中任1项所述的曝光用镜,所述曝光用镜反射从所述积分器出射的所述光,

将来自所述照明装置的光经由掩模而照射在工件上,将所述掩模的曝光图案曝光转印到所述工件。

10.根据权利要求9所述的曝光装置,其特征在于,

所述曝光用镜具备镜弯曲机构,所述镜弯曲机构设置于所述曝光用镜的背面侧且能够变更所述曝光用镜的曲率。

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