[发明专利]用于光学装置的多深度膜在审
| 申请号： | 202080026802.3 | 申请日： | 2020-04-08 |
| 公开（公告）号： | CN113646668A | 公开（公告）日： | 2021-11-12 |
| 发明（设计）人： | 卡尔·J·阿姆斯特朗;卢多维克·戈代;布莱恩·亚历山大·科恩;韦恩·麦克米兰;詹姆斯·D·斯特拉斯纳;本杰明·里奥登 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | G02B1/12 | 分类号： | G02B1/12;G02B5/02 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开内容的实施方式涉及形成用于制造光学装置的多深度膜。一个实施方式包含在基板的表面上设置装置材料的基底层。装置材料的一个或多个心轴设置在基底层上。设置一个或多个心轴的步骤包含在基底层上方定位掩模。在掩模位于基底层上方的情况下沉积装置材料以形成光学装置，该光学装置具有具基底层深度的基底层及具有第一心轴深度与第二心轴深度的一个或多个心轴。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光学 装置 深度 | ||
【主权项】：
暂无信息
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