[发明专利]溅射靶及溅射靶的制造方法在审
| 申请号： | 202080022678.3 | 申请日： | 2020-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN113614281A | 公开（公告）日： | 2021-11-05 |
| 发明（设计）人： | 曽川慎治;荒川笃俊 | 申请（专利权）人： | JX金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;H01L21/8239;H01L27/105 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 吕琳;朴秀玉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： |
一种溅射靶，其中，含有10at％～20at％的B，剩余部分中包含Fe，利用SEM图像观察的Fe－B相的平均面积为20μm |
||
| 搜索关键词： | 溅射 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于JX金属株式会社，未经JX金属株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202080022678.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
