[实用新型]一种原子层沉积设备

摘要

本实用新型涉及一种原子层沉积设备，包括主控制器、反应腔体、通气调节回路以及管路疏通气路，所述通气调节回路包括真空抽气装置、气压监测装置、第一节流阀以及多个源瓶，第一节流阀的进气端与氮气源连通，在反应腔体上设置主通气管，气压监测装置设置在主通气管上，每个源瓶分别通过单独设置的支通气管与主通气管相连通，在每个支通气管上分别设置源瓶阀，第一节流阀通过设置的氮气管路与主通气管连通；所述管路疏通气路包括压缩气源和第二节流阀，第二节流阀通过设置的压缩气管分别与各个支通气管相连通，在压缩气管上设置压缩气阀。本实用新型带有管路疏通装置，解决了管路堵塞问题，降低了设备维护成本。