[实用新型]半导体圆晶清洗设备有效
| 申请号： | 202023111090.1 | 申请日： | 2020-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN214441243U | 公开（公告）日： | 2021-10-22 |
| 发明（设计）人： | 陈铁龙;林智颖;陈坤;张振;孙东初 | 申请（专利权）人： | 苏州睿智源自动化科技有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/02 | 分类号： | B08B3/02;B08B3/08;B08B3/10;B08B3/12;B08B13/00;F26B21/00 |
| 代理公司： | 苏州周智专利代理事务所(特殊普通合伙) 32312 | 代理人： | 杨月芳 |
| 地址： | 215300 江苏省苏州市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种半导体圆晶清洗设备，包括机架，所述机架由干湿隔断门分隔成湿式清洗区和干式清洗区；所述湿式清洗区包括化学试剂清洗室、纯水清洗室、用于运输花篮的湿式机械手和用于清洗湿式机械手的机械手清洗室；所述干式清洗区包括圆晶甩干室、圆晶存放室和用于运输花篮的干式机械手；所述机架上安装有用于驱动所述湿式机械手/所述干式机械手进行上下和/或左右移动的驱动模组。本实用新型利用机械手实现化学试剂清洗、纯水清洗和甩干三道工序，提高半导体清洗的自动化程度；且各个清洗室的结构设计利于提高半导体清洗的洁净效果，有助于产品良率的提高。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 清洗 设备 | ||
【主权项】：
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