[实用新型]一种限位装置及设有该限位装置的满提拉清洗系统有效
申请号: | 202022904194.1 | 申请日: | 2020-12-07 |
公开(公告)号: | CN213958914U | 公开(公告)日: | 2021-08-13 |
发明(设计)人: | 王大伟;武治军;危晨;赵越;李建弘;范俊杰 | 申请(专利权)人: | 天津市环智新能源技术有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/677 |
代理公司: | 天津诺德知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 12213 | 代理人: | 栾志超 |
地址: | 300450 天津市*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本实用新型提供一种限位装置,用于控制倾斜设置在水槽中的放置架位置,包括使所述放置架水平设置的限位组件一和限位组件二,所述限位组件一和所述限位组件二均被设置于所述水槽内,且分别位于所述放置架的下限位置处和上限位置处。本实用新型还提出设有该限位装置的满提拉清洗系统。本实用新型提出的限位装置,能使倾斜设置的放置架在上限位置和下限位置时被水平设置,保证片篮在放置架上被放置或取出时平稳托载,同时还不影响片篮中的硅片在上升清洗过程中的倾斜设置,结构简单且易于操作,与倾斜设置的放置架配合良好,保持放置架上下限位置的精准控制。 | ||
搜索关键词: | 一种 限位 装置 设有 满提拉 清洗 系统 | ||
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造