[实用新型]一种用于CVD涂层设备的反应腔体内压力动态平衡控制系统有效

专利信息
申请号: 202022278897.8 申请日: 2020-10-13
公开(公告)号: CN212247208U 公开(公告)日: 2020-12-29
发明(设计)人: 王彤 申请(专利权)人: 常州艾恩希纳米镀膜科技有限公司
主分类号: C23C16/52 分类号: C23C16/52
代理公司: 上海思牛达专利代理事务所(特殊普通合伙) 31355 代理人: 丁剑
地址: 213100 江苏省常州市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型涉及金属切削刀具和工模具涂层技术领域,且公开了一种用于CVD涂层设备的反应腔体内压力动态平衡控制系统,包括反应腔体,所述反应腔体底部分别固定安装有进气口、第一压力变送器与出气口,所述出气口的一端固定连接有冷凝阱,通过机械压力表更换为压力变送器,压力值实时显示在控制电脑屏幕上,反应腔体的压力值的维持通过电动控制波纹管阀和反应腔体内的第一压力变送器配合,电动控制波纹管阀自动调节开合度大小来实现,而且整个过程完全自动控制,无需人为干涉,液环泵入口处安装有压力变送器,只有当液环真空泵入口的压力值比反应腔体内压力小的时候,才能打开气动球阀,这样可以避免液环泵内的NaOH液体倒灌到反应腔体内。
搜索关键词: 一种 用于 cvd 涂层 设备 反应 体内 压力 动态平衡 控制系统
【主权项】:
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