[实用新型]一种真空蒸镀设备有效
| 申请号： | 202022132157.3 | 申请日： | 2020-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN216192657U | 公开（公告）日： | 2022-04-05 |
| 发明（设计）人： | 李同裕 | 申请（专利权）人： | 扬州吉山津田光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/50;C23C14/56 |
| 代理公司： | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人： | 王美章 |
| 地址： | 225803 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种真空蒸镀设备，属于真空蒸镀领域。它包括蒸镀腔室；还包括蒸镀台，其有若干个，置于蒸镀腔室内底部，每个蒸镀台顶部均设置有蒸发源，不同蒸镀台的蒸发源的蒸镀材料不同；以及基板，其有若干个，设于蒸镀腔室内顶部，基板环绕式设于蒸镀台上方。本实用新型通过环绕式设置多个基板，配合多个蒸镀台，能对基板进行不同材料的同时蒸镀，且蒸镀台的蒸发源散发处的材料分子可更大面积的被基板朝向蒸镀台的待镀面接收，从而降低了对材料的浪费，具有结构简单、设计合理、易于制造的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空 设备 | ||
【主权项】：
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