[实用新型]一种真空蒸镀设备有效
| 申请号： | 202022132157.3 | 申请日： | 2020-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN216192657U | 公开（公告）日： | 2022-04-05 |
| 发明（设计）人： | 李同裕 | 申请（专利权）人： | 扬州吉山津田光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/50;C23C14/56 |
| 代理公司： | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人： | 王美章 |
| 地址： | 225803 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 真空 设备 | ||
【权利要求书】：
1.一种真空蒸镀设备，包括，
蒸镀腔室；
其特征在于，还包括：
蒸镀台，其有若干个，置于蒸镀腔室内底部，每个蒸镀台顶部均设置有蒸发源，不同蒸镀台的蒸发源的蒸镀材料不同；以及，
基板，其有若干个，设于蒸镀腔室内顶部，基板环绕式设于蒸镀台上方；
所述蒸发源外设有半球罩体，半球罩体上开设有若干通孔，通孔数量与基板数量相同，每个通孔均对正不同的基板待镀面；
半球罩体的每个通孔外均套设有角度限制罩，蒸发源通过通孔在对应基板上的蒸镀面积由角度限制罩的开口面积限制；
蒸镀腔室顶部开设有通气孔，真空泵通过通气孔，形成蒸镀腔室内的真空环境，通气孔有若干个，对正不同的基板；
若干基板布置为水平设置的一基板及倾斜环绕于其周围的其余基板。
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