[实用新型]一种冷壁法CVD沉积装置

摘要

本实用新型公开了一种冷壁法CVD沉积装置，包括底座、沉积管、马达和弹性块，所述底座的底表面固定安装有沉积箱，沉积箱的顶端内部贯穿安装有沉积管，所述沉积管的内部中间固定安装有轴座，轴座中间设有框架，且框架通过轴杆转动安装在轴座的中间，所述框架的内部开设有嵌口，嵌口的内部一侧开设有第二凹口，嵌口的内部另一侧设有第一凹口，第一凹口开设在抵板的内部。本实用新型在沉积管的内部中间固定安装了一个可翻转的框架，将需要加工的晶片嵌入固定在框架内部，在沉积加工晶片一面后工作人员可控制马达转动框架使其晶片另一面可被加工，达到了方便工作人员使用以及节省时力和材料的效果。