[实用新型]一种二极管酸洗设备有效
申请号: | 202021507831.5 | 申请日: | 2020-07-27 |
公开(公告)号: | CN212874433U | 公开(公告)日: | 2021-04-02 |
发明(设计)人: | 郑刚 | 申请(专利权)人: | 上海禾馥电子有限公司 |
主分类号: | H01L21/306 | 分类号: | H01L21/306;B08B3/08;B08B3/10 |
代理公司: | 上海宏京知识产权代理事务所(普通合伙) 31297 | 代理人: | 何艳娥 |
地址: | 201209 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种二极管酸洗设备,包括酸液箱、酸洗箱和回收池,酸液箱通过供液管与酸洗箱上部相连通,供液管上设有进液阀和进液泵,酸洗箱下部通过出液管与回收池相连通,出液管上设有排液阀,酸液箱顶部设有进酸管,酸液箱内部设有温控装置,酸洗箱内底部开设有环状滑槽,酸洗箱内下部横向设置有转动盘,转动盘底部设置有滑动块,滑动块滑动设置在环状滑槽内,酸洗箱底部设置有驱动电机,驱动电机的输出端贯穿酸洗箱底部与转动盘底部中间处相连接,转动盘上方设置有酸洗框,酸洗框底部与转动盘顶部之间设有摆动装置。其保持酸洗箱内酸洗溶液温度恒定,并使得二极管表面与酸洗溶液充分接触,提高了二极管的酸洗效率和酸洗效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 二极管 酸洗 设备 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海禾馥电子有限公司,未经上海禾馥电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202021507831.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种奶皮电锅
- 下一篇:具有提高清灰质量的滤筒除尘器
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造