[实用新型]一种二极管酸洗设备

说明书

本实用新型公开了一种二极管酸洗设备，包括酸液箱、酸洗箱和回收池，酸液箱通过供液管与酸洗箱上部相连通，供液管上设有进液阀和进液泵，酸洗箱下部通过出液管与回收池相连通，出液管上设有排液阀，酸液箱顶部设有进酸管，酸液箱内部设有温控装置，酸洗箱内底部开设有环状滑槽，酸洗箱内下部横向设置有转动盘，转动盘底部设置有滑动块，滑动块滑动设置在环状滑槽内，酸洗箱底部设置有驱动电机，驱动电机的输出端贯穿酸洗箱底部与转动盘底部中间处相连接，转动盘上方设置有酸洗框，酸洗框底部与转动盘顶部之间设有摆动装置。其保持酸洗箱内酸洗溶液温度恒定，并使得二极管表面与酸洗溶液充分接触，提高了二极管的酸洗效率和酸洗效果。

技术领域

本实用新型涉及二极管生产设备技术领域，具体涉及一种二极管酸洗设备。

背景技术

二极管是是指利用半导体特性的两端电子器件，最常见的半导体二极管是PN结型二极管和金属半导体接触二极管。它们的共同特点是伏安特性的不对称性，即电流沿其一个方向呈现良好的导电性，而在相反方向呈现高阻特性。可用作为整流、检波、稳压、恒流、变容、开关、发光及光电转换等。

二极管在制造过程中需要经过酸洗，即利用各种酸和水，对芯片P-N结周围边缘表面进行化学腐蚀，以改善机械损伤，祛除表面吸附的杂质，降低表面电场，使P-N结的击穿首先从体内发生，以获得于理论值接近的反向击穿电压和极小的表面漏电流，因此，酸洗效果的好坏对二极管的成品质量起到重要的影响作用。而现有的二极管酸洗设备在使用时存在以下缺陷：(1)现有的酸洗设备在酸洗操作时，通常是将二极管直接放置在酸洗板上，通过喷头对二极管进行酸洗，由于酸洗板及二极管在酸洗设备内的位置基本是固定的，因此二极管下部及相互重叠部分很难与酸洗溶液充分接触，导致二极管表面酸洗均匀性差；(2)现有的酸洗设备无法实时对酸洗溶液温度进行调节，导致酸洗设备内酸洗溶液的温度不稳定，进而导致二极管的酸洗达不到要求。

实用新型内容

为了解决上述背景技术中存在的问题，本实用新型提供一种二极管酸洗设备，其保持酸洗箱内酸洗溶液温度恒定，并使得二极管表面与酸洗溶液充分接触，提高了二极管的酸洗效率和酸洗效果。

为了实现上述目的，本实用新型采用以下技术方案：

本实用新型提供一种二极管酸洗设备，包括酸液箱、酸洗箱和回收池，所述酸液箱通过供液管与所述酸洗箱上部相连通，所述供液管上设有进液阀和进液泵，所述酸洗箱下部通过出液管与所述回收池相连通，所述出液管上设有排液阀，所述酸液箱顶部设有进酸管，所述酸液箱内部设有温控装置，所述酸洗箱内底部开设有环状滑槽，所述酸洗箱内下部横向设置有转动盘，所述转动盘底部设置有滑动块，所述滑动块滑动设置在所述环状滑槽内，所述酸洗箱底部设置有驱动电机，所述驱动电机的输出端贯穿所述酸洗箱底部与所述转动盘底部中间处相连接，所述转动盘上方设置有酸洗框，所述酸洗框底部与所述转动盘顶部之间设有摆动装置。

进一步地改进在于，所述摆动装置包括固定件、调节杆、滑块、滑动杆和支撑件，所述滑动杆位于所述转动盘上方，且所述滑动杆两端分别通过支撑件固定在所述转动盘顶部，所述固定件固定在所述酸洗框底部，所述固定件底部两侧分别铰接设置有滑动杆，所述滑动杆底部通过滑块与所述滑动杆滑动连接，位于所述滑块与靠近于其一侧的支撑件之间的滑动杆外侧设有第一弹性件。工作时，在驱动电机的带动下转动盘旋转，滑动杆底部滑块沿滑动杆左右移动，进而带动酸洗框在酸洗箱内的酸洗溶液中上下晃动，以增加酸洗框内的二极管与酸洗溶液的接触面积，提高酸洗效果，通过第一弹性件可对酸洗框上下晃动过程进行缓冲，避免酸洗框上下运动幅度过大对二极管造成损坏。

进一步地改进在于，所述摆动装置相对两侧分别设置有辅助摆动装置，所述辅助摆动装置包括升降杆、固定杆、升降腔和第二弹性件，所述固定杆沿竖直方向固定设置在所述转动盘顶部，所述固定杆顶部开设有升降腔，所述升降杆一端固定设置在所述酸洗框底部，所述升降杆另一端活动设置在所述升降腔内，所述升降杆上部外侧套设有所述第二弹性件。通过辅助摆动装置中升降杆、固定杆、升降腔和第二弹性件的配合作用，使得酸洗框两侧受力平衡，使得酸洗框上下晃动更加均匀，避免酸洗框发生倾斜。