[实用新型]一种氮化硅陶瓷上金属围坝的共晶焊接结构有效

专利信息
申请号: 202021071118.0 申请日: 2020-06-11
公开(公告)号: CN212451222U 公开(公告)日: 2021-02-02
发明(设计)人: 周孔礼 申请(专利权)人: 山西华微紫外半导体科技有限公司;周孔礼
主分类号: C04B37/02 分类号: C04B37/02;C04B41/88
代理公司: 深圳市华盛智荟知识产权代理事务所(普通合伙) 44604 代理人: 胡国英
地址: 046021 山西省长治市高新区漳泽工业园*** 国省代码: 山西;14
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摘要: 实用新型公开了一种氮化硅陶瓷上金属围坝的共晶焊接结构,包括氮化硅陶瓷基板,所述氮化硅陶瓷基板上设置有金属线路涂层,沿着所述金属线路涂层设置有用于焊接的合金金属层,所述合金金属层的形状与所述金属线路涂层的形状适配,所述合金金属层上设置有围坝,所述围坝的下端面形状与所述合金金属层的形状适配。本实用新型构思新颖、设计合理,且便于使用,本实用新型根据氮化硅陶瓷基板需要通过共晶焊接围坝,提供了一种氮化硅陶瓷基板和围坝之间的设置结构,用于氮化硅陶瓷基板上共晶焊接围坝,效果良好。
搜索关键词: 一种 氮化 陶瓷 金属 焊接 结构
【主权项】:
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